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信越化学工業株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第113位 412件 下降2013年:第95位 489件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第66位 549件 上昇2013年:第86位 460件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5411780 非水電解質二次電池用負極材及び非水電解質二次電池用負極材の製造方法並びにリチウムイオン二次電池 2014年 2月12日
特許 5411438 SOI基板の製造方法 2014年 2月12日
特許 5413447 自動車グレージング用プラスチック基材及び補修方法 2014年 2月12日 共同出願
特許 5411596 ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル 2014年 2月12日 共同出願
特許 5411595 ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル 2014年 2月12日 共同出願
特許 5411611 電子写真感光体 2014年 2月12日 共同出願
特許 5407549 光触媒粒子の分散液及びその製法 2014年 2月 5日
特許 5407555 合成石英ガラス基板用研磨剤 2014年 2月 5日
特許 5407188 合成石英ガラス基板用研磨剤 2014年 2月 5日
特許 5407841 反応性シリル基を有するトリアリールアミン誘導体及び無機材料並びに色素増感型光電変換素子 2014年 2月 5日
特許 5407825 2以上のアミノ基を有するシラン化合物及びその製造方法 2014年 2月 5日
特許 5407776 アミノ基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 2014年 2月 5日
特許 5409695 オルガノポリシロキサン、オルガノポリシロキサンを含む仮接着剤組成物、及びそれを用いた薄型ウエハの製造方法 2014年 2月 5日
特許 5407941 ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 2014年 2月 5日
特許 5407892 ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 2014年 2月 5日

549 件中 481-495 件を表示

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5411780 5411438 5413447 5411596 5411595 5411611 5407549 5407555 5407188 5407841 5407825 5407776 5409695 5407941 5407892

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