ホーム > 特許ランキング > 信越化学工業株式会社 > 2012年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(信越化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第106位 436件 (2011年:第107位 416件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第108位 382件 (2011年:第67位 474件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5074814 | 接着剤組成物及びその使用方法 | 2012年11月14日 | |
特許 5071688 | パターン形成方法及びレジスト変性用組成物 | 2012年11月14日 | |
特許 5071612 | 含フッ素硬化性組成物 | 2012年11月14日 | |
特許 5071658 | レジスト材料、レジスト保護膜材料、及びパターン形成方法 | 2012年11月14日 | |
特許 5067573 | 光導波板用シリコーンゴム組成物及び光導波板 | 2012年11月 7日 | |
特許 5067523 | 化学増幅ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5067525 | 光硬化性コーティング組成物及びこの組成物の硬化被膜が形成された物品 | 2012年11月 7日 | |
特許 5068831 | レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5065748 | 貼り合わせウエーハの製造方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5068828 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜形成方法、及びパターン形成方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5068511 | 弾性表面波素子の製造方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5062446 | 光拡散性ジメチルシリコーンゴム組成物及びLED光拡散成型体 | 2012年10月31日 | |
特許 5060546 | 永久磁石式発電機とそれを用いた風力発電機 | 2012年10月31日 | |
特許 5064012 | フッ素含有オルガノポリシロキサン及びこれを含む表面処理剤並びに該表面処理剤で表面処理された物品 | 2012年10月31日 | |
特許 5064693 | SOI基板の製造方法 | 2012年10月31日 |
382 件中 46-60 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5074814 5071688 5071612 5071658 5067573 5067523 5067525 5068831 5065748 5068828 5068511 5062446 5060546 5064012 5064693
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
〒104-0045 東京都中央区築地1-12-22 コンワビル4F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒500-8368 岐阜県 岐阜市 宇佐3丁目4番3号 4-3,Usa 3-Chome, Gifu-City, 500-8368 JAPAN 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都江東区亀戸一丁目8番8号大樹生命亀戸ビル6階 6TH FLOOR, TAIJU SEIMEI KAMEIDO BLDG., 8-8, KAMEIDO 1-CHOME, KOTO-KU, TOKYO 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング