ホーム > 特許ランキング > 信越化学工業株式会社 > 2014年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(信越化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2014年 出願公開件数ランキング 第113位 412件
(2013年:第95位 489件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第66位 549件
(2013年:第86位 460件)
(ランキング更新日:2025年6月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5603837 | 付加硬化型シリコーン組成物及び光学素子 | 2014年10月 8日 | |
特許 5600900 | 撥水剤組成物 | 2014年10月 8日 | |
特許 5601286 | レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 | 2014年10月 8日 | |
特許 5601270 | フルオロアルキル基を有するシラザン化合物及びその製造方法 | 2014年10月 8日 | |
特許 5601309 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 | 2014年10月 8日 | |
特許 5598489 | ビフェニル誘導体、レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法及びパターン形成方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5599147 | 水溶性セルロースエーテルの製造方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5598448 | 耐擦傷性シリコーンコーティング組成物並びに被覆物品及びその製造方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5598352 | 化学増幅ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5598350 | 電子線用又はEUV用化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5598315 | ゲル化能を有する新規シラン化合物及びその製造方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5598351 | 電子線用又はEUV用化学増幅ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5599379 | 太陽電池素子の製造方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5598343 | 半導体封止用液状エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | 2014年10月 1日 | |
特許 5594238 | 磁石固定治具 | 2014年 9月24日 |
549 件中 91-105 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5603837 5600900 5601286 5601270 5601309 5598489 5599147 5598448 5598352 5598350 5598315 5598351 5599379 5598343 5594238
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
6月10日(火) -
6月10日(火) -
6月11日(水) -
6月11日(水) -
6月12日(木) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月10日(火) -
【名古屋オフィス】 〒462-0002愛知県名古屋市中区丸の内2-10-30インテリジェント林ビル2階 【可児オフィス】 〒509-0203岐阜県可児市下恵土 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 鑑定 コンサルティング
〒152-0034 東京都目黒区緑が丘一丁目16番7号 意匠 商標 外国商標 訴訟 コンサルティング
〒460-0003 愛知県名古屋市中区錦1-11-11 名古屋インターシティ16F 〒104-0061 東京都中央区銀座8-17-5 THE HUB 銀座OCT 407号室(東京支店) 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング