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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5603837 | 付加硬化型シリコーン組成物及び光学素子 | 2014年10月 8日 | |
特許 5600900 | 撥水剤組成物 | 2014年10月 8日 | |
特許 5601286 | レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 | 2014年10月 8日 | |
特許 5601270 | フルオロアルキル基を有するシラザン化合物及びその製造方法 | 2014年10月 8日 | |
特許 5601309 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 | 2014年10月 8日 | |
特許 5598489 | ビフェニル誘導体、レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法及びパターン形成方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5599147 | 水溶性セルロースエーテルの製造方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5598448 | 耐擦傷性シリコーンコーティング組成物並びに被覆物品及びその製造方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5598352 | 化学増幅ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5598350 | 電子線用又はEUV用化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5598315 | ゲル化能を有する新規シラン化合物及びその製造方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5598351 | 電子線用又はEUV用化学増幅ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5599379 | 太陽電池素子の製造方法 | 2014年10月 1日 | |
特許 5598343 | 半導体封止用液状エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | 2014年10月 1日 | |
特許 5594238 | 磁石固定治具 | 2014年 9月24日 |
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5603837 5600900 5601286 5601270 5601309 5598489 5599147 5598448 5598352 5598350 5598315 5598351 5599379 5598343 5594238
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11月26日(火) -
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
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12月1日(日) -
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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