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国立大学法人東京工業大学
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第257位 157件
（
2010年：第297位 155件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第441位 75件
（2010年：第445位 63件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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国立大学法人東京工業大学の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-232506 | 可変焦点液体レンズ及びその焦点制御方法 | 2011年11月17日 | |
| 特開 2011-224500 | バイオマス連続乾式ガス化プラント | 2011年11月10日 | 共同出願 |
| 再表 2009-150882 | 画像位置合わせ処理装置、領域拡張処理装置及び画質改善処理装置 | 2011年11月10日 | |
| 特開 2011-225850 | 新規の共重合体及びその製造方法 | 2011年11月10日 | 共同出願 |
| 特開 2011-225849 | 新規の重合体及びその製造方法 | 2011年11月10日 | 共同出願 |
| 特開 2011-219643 | トリアジン単位含有ポリ（フェニレンチオエーテル） | 2011年11月 4日 | 共同出願 |
| 特開 2011-219642 | 硫黄を含有する（メタ）アクリレート化合物 | 2011年11月 4日 | 共同出願 |
| 特開 2011-215283 | 硬化レリーフパターンの形成方法 | 2011年10月27日 | 共同出願 |
| 再表 2009-147918 | ポリヒドロキシアルカン酸共重合体及びその製造法 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-211127 | ナノワイヤトランジスタ及びその製造方法 | 2011年10月20日 | 共同出願 |
| 特開 2011-204632 | ヒドリドイオン導電体およびその製造方法 | 2011年10月13日 | |
| 特開 2011-204882 | 真空紫外光発生装置 | 2011年10月13日 | |
| 特開 2011-203160 | Ｘ線ＣＴ画像再構成方法及びＸ線ＣＴ画像再構成プログラム | 2011年10月13日 | |
| 再表 2009-145219 | アルツハイマー病治療薬 | 2011年10月13日 | 共同出願 |
| 特開 2011-195396 | 積層膜およびその製膜方法 | 2011年10月 6日 | 共同出願 |
157 件中 16-30 件を表示
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2011-232506 2011-224500 2009-150882 2011-225850 2011-225849 2011-219643 2011-219642 2011-215283 2009-147918 2011-211127 2011-204632 2011-204882 2011-203160 2009-145219 2011-195396
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