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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第276位 150件
(2013年:第270位 169件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第275位 146件
(2013年:第326位 122件)
(ランキング更新日:2025年5月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5386797 | フレキシブルポリイミドフィルムおよびその製造法 | 2014年 1月15日 | |
特許 5388848 | 新規脂質トリペプチド性ヒドロゲル化剤及びヒドロゲル | 2014年 1月15日 | 共同出願 |
特許 5382371 | 無水アンチモン酸亜鉛コロイド粒子の疎水性有機溶媒分散ゾル及びその製造方法 | 2014年 1月 8日 | |
特許 5381702 | ポルフィセン−シリカハイブリッド化合物 | 2014年 1月 8日 | |
特許 5382310 | 被膜形成用塗布液、その製造方法、その被膜、及び反射防止材 | 2014年 1月 8日 | |
特許 5382350 | 光学活性ジニッケル錯体及びそれを触媒とする光学活性アミンの製造方法 | 2014年 1月 8日 | |
特許 5382390 | 硫黄原子を含有するレジスト下層膜形成用組成物及びレジストパターンの形成方法 | 2014年 1月 8日 | |
特許 5382372 | 液晶配向処理剤及びそれを用いた液晶表示素子 | 2014年 1月 8日 | |
特許 5382351 | 液晶配向処理剤、及びそれを用いた液晶表示素子 | 2014年 1月 8日 | |
特許 5382346 | 熱硬化膜形成用樹脂組成物 | 2014年 1月 8日 | |
特許 5382321 | レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 | 2014年 1月 8日 |
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5386797 5388848 5382371 5381702 5382310 5382350 5382390 5382372 5382351 5382346 5382321
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