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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第406位 95件 (2010年:第403位 108件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第423位 78件 (2010年:第384位 76件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 4793583 | 金属酸化物を含むリソグラフィー用下層膜形成組成物 | 2011年10月12日 | |
特許 4788108 | 低誘電率、低線熱膨張係数、高透明性、高ガラス転移温度を併せ持つポリイミドとその前駆体 | 2011年10月 5日 | |
特許 4788858 | イソフタル酸化合物及びその製造法 | 2011年10月 5日 | |
特許 4784784 | 液状添加剤を含むレジスト下層膜形成組成物 | 2011年10月 5日 | |
特許 4779974 | 液晶配向剤及びそれを用いた液晶表示素子 | 2011年 9月28日 | |
特許 4781546 | アントラニル酸アミド化合物の製造方法並びにpH官能性蛍光色素材料とその利用法 | 2011年 9月28日 | 共同出願 |
特許 4783152 | 血管内膜肥厚抑制薬 | 2011年 9月28日 | 共同出願 |
特許 4775585 | コバルト系染料含有レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルター | 2011年 9月21日 | |
特許 4765142 | ポリマー若しくはオリゴマーの製造方法 | 2011年 9月 7日 | |
特許 4766284 | QCMセンサーを用いる熱硬化膜中の昇華物の測定方法 | 2011年 9月 7日 | |
特許 4752993 | ポリイミド多孔質膜およびその製造法 | 2011年 8月17日 | |
特許 4753046 | 保護されたカルボキシル基を有する化合物を含むリソグラフィー用下層膜形成組成物 | 2011年 8月17日 | |
特許 4753018 | 付加重合性樹脂を含むリソグラフィー用反射防止膜形成組成物 | 2011年 8月17日 | |
特許 4753036 | ポジ型感光性樹脂組成物及びそれから得られる硬化膜 | 2011年 8月17日 | |
特許 4753040 | 重合性基を有する化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物 | 2011年 8月17日 |
78 件中 16-30 件を表示
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4793583 4788108 4788858 4784784 4779974 4781546 4783152 4775585 4765142 4766284 4752993 4753046 4753018 4753036 4753040
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11月22日(金) -
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) - 京都 京都市
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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