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日産化学工業株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第406位 95件
（
2010年：第403位 108件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第423位 78件
（2010年：第384位 76件）
（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日産化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4737504 | スギナまたはクローバー防除用農薬組成物 | 2011年 8月 3日 | |
| 特許 4737489 | 防腐防カビ防藻剤 | 2011年 8月 3日 | |
| 特許 4730487 | 変性金属酸化物ゾル及びその製造方法 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4730485 | 安定化される農薬組成物 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4720988 | フルオレン構造を有する化合物を含むリソグラフィー用下層膜形成組成物 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4720984 | 段差を有する基板上に被覆膜を形成する方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4715977 | 固形農薬組成物および散布方法 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4715982 | 分子磁性体およびその製造方法 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4714992 | キノリンカルボアルデヒドの製造法 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4715992 | アクリロニトリル化合物の製造方法 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4716031 | ハンダ用耐熱水溶性フラックス組成物 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4706851 | 包接分子を含有するシクロデキストリンを含むリソグラフィー用下層膜形成組成物 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4702058 | 液晶配向処理剤及び液晶表示素子 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4702559 | 縮合系ポリマーを有する半導体用反射防止膜 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4697464 | 含窒素芳香環構造を含むリソグラフィー用反射防止膜形成組成物 | 2011年 6月 8日 |
78 件中 31-45 件を表示
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4737504 4737489 4730487 4730485 4720988 4720984 4715977 4715982 4714992 4715992 4716031 4706851 4702058 4702559 4697464
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