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日産化学工業株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第276位 150件
（
2013年：第270位 169件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第275位 146件
（
2013年：第326位 122件）
（ランキング更新日：2025年7月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日産化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5545429 | 光硬化膜形成組成物及び光硬化膜形成方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5534244 | ハイパーブランチポリマーの製造方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5534246 | ナノインプリント用レジスト下層膜形成組成物 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5531614 | メルカプト基で修飾したポリシロキサンを含有する反射防止被膜形成用塗布液 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5533654 | ３，５−ジヒドロキシ−６−ヘプテン酸アミン塩類の製造方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5534229 | 薄膜トランジスタ用ゲート絶縁膜形成組成物 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5534250 | スルホンアミド基を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5534282 | インプリント材料 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5534228 | 薄膜トランジスタ用ゲート絶縁膜形成剤 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5532259 | 画像形成用下層膜 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5532203 | 接着剤組成物 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5534230 | アニオン基を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5534205 | 感光性レジスト下層膜形成組成物及びレジストパターンの形成方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5534225 | ポジ型感光性樹脂組成物及びポリヒドロキシアミド樹脂 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5522415 | レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 | 2014年 6月18日 |
146 件中 61-75 件を表示
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5545429 5534244 5534246 5531614 5533654 5534229 5534250 5534282 5534228 5532259 5532203 5534230 5534205 5534225 5522415
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