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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第270位 169件
(2012年:第291位 145件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第326位 122件
(2012年:第365位 100件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5186108 | ピタバスタチンカルシウム塩の結晶 | 2013年 4月17日 | |
特許 5182533 | 金属酸化物複合ゾル、コーティング組成物及び光学部材 | 2013年 4月17日 | |
特許 5182532 | 変性金属酸化物複合ゾル、コーティング組成物及び光学部材 | 2013年 4月17日 | |
特許 5177445 | 研磨用組成物 | 2013年 4月 3日 | |
特許 5177150 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2013年 4月 3日 | |
特許 5170386 | スルフォニル基を有するチオフェン化合物及びその製造法 | 2013年 3月27日 | |
特許 5170487 | ポリアミド酸エステルおよびポリイミドの製造方法 | 2013年 3月27日 | |
特許 5170511 | 電子線硬化のケイ素含有レジスト下層膜を形成するためのケイ素含有レジスト下層膜形成組成物 | 2013年 3月27日 | |
特許 5168469 | 酸化ジルコニウム−酸化スズ複合体ゾル、コーティング組成物及び光学部材 | 2013年 3月21日 | |
特許 5168517 | レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 | 2013年 3月21日 | |
特許 5163898 | ポリアミック酸およびポリイミド | 2013年 3月13日 | |
特許 5163899 | 環構造を持つ高分子化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物 | 2013年 3月13日 | |
特許 5158926 | 不斉マンニッヒ型反応用キラルジルコニウム触媒の製造方法 | 2013年 3月 6日 | 共同出願 |
特許 5157900 | 含窒素ヘテロ環化合物及びトロンボポエチンレセプター活性化剤 | 2013年 3月 6日 | |
特許 5158382 | リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物及び半導体装置の製造方法 | 2013年 3月 6日 |
122 件中 91-105 件を表示
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5186108 5182533 5182532 5177445 5177150 5170386 5170487 5170511 5168469 5168517 5163898 5163899 5158926 5157900 5158382
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5月29日(木) - 東京 港区
5月29日(木) - 東京 品川区
5月29日(木) - 東京 新宿区
5月29日(木) -
5月29日(木) -
5月30日(金) -
5月30日(金) -
5月29日(木) - 東京 港区
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
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