ホーム > 特許ランキング > 日産化学工業株式会社 > 2014年 > 特許一覧
日産化学工業株式会社
※ ログインすれば出願人(日産化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2014年 出願公開件数ランキング 第276位 150件
（
2013年：第270位 169件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第275位 146件
（
2013年：第326位 122件）
（ランキング更新日：2025年7月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
日産化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5430396 | 表面改質されたポリマー構造体の製造方法 | 2014年 2月26日 | 共同出願 |
| 特許 5428336 | 塗布液並びにそれを用いた液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5423679 | ピリダジノン化合物及びＰ２Ｘ７受容体阻害剤 | 2014年 2月19日 | |
| 特許 5413369 | 電荷輸送性ワニス | 2014年 2月12日 | |
| 特許 5407872 | アリールスルホン酸化合物および電子受容性物質としての利用 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5408435 | ハイパーブランチポリマーの製造方法 | 2014年 2月 5日 | |
| 特許 5403280 | 脂環式テトラカルボン酸化合物の製造法 | 2014年 1月29日 | |
| 特許 5403205 | ２−アミノ−Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アセトアミド化合物又はその塩の製造方法 | 2014年 1月29日 | |
| 特許 5402635 | フタロシアニン化合物 | 2014年 1月29日 | |
| 特許 5400261 | インドール化合物の製造方法 | 2014年 1月29日 | |
| 特許 5401791 | スプレー又はインクジェット塗布用電荷輸送性ワニス | 2014年 1月29日 | |
| 特許 5397636 | コーティング組成物及びパターン形成方法 | 2014年 1月22日 | |
| 特許 5387813 | 農薬包装袋 | 2014年 1月15日 | |
| 特許 5387861 | ポジ型レジスト組成物、マイクロレンズ、固体撮像素子、平坦化膜、液晶表示素子、ＬＥＤ表示装置及びパターン形成方法 | 2014年 1月15日 | |
| 特許 5387793 | 液晶配向剤 | 2014年 1月15日 |
146 件中 121-135 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5430396 5428336 5423679 5413369 5407872 5408435 5403280 5403205 5402635 5400261 5401791 5397636 5387813 5387861 5387793
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日産化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
7月18日(金) - 東京 千代田区
7月18日(金) -
7月18日(金) - 東京 千代田区
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月24日(木) -
7月24日(木) -
7月24日(木) -
7月25日(金) -
7月25日(金) -
7月25日(金) - 大阪 大阪市
7月25日(金) - 東京 立川市
【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】～特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について～
7月25日(金) -
7月25日(金) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
福岡市博多区博多駅前1-23-2-5F-B 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪市天王寺区上本町六丁目9番10号 青山ビル本館3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒153-0061 東京都目黒区中目黒1-8-1VORT中目黒Ⅰ3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
