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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第145位 311件
(2010年:第110位 439件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第127位 281件
(2010年:第89位 319件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-52906 | セラミック焼成用窯道具板 | 2011年 3月17日 | |
特開 2011-51800 | セラミックス材料及びその製造方法 | 2011年 3月17日 | |
特開 2011-52544 | 排気ガス処理装置 | 2011年 3月17日 | |
特開 2011-52919 | 蓄熱体 | 2011年 3月17日 | |
特開 2011-52843 | 熱処理用冶具 | 2011年 3月17日 | 共同出願 |
特開 2011-51855 | セラミックス材料の製造方法 | 2011年 3月17日 | 共同出願 |
特開 2011-54457 | 全固体二次電池およびその製造方法 | 2011年 3月17日 | 共同出願 |
再表 2009-57473 | プラズマリアクタ | 2011年 3月10日 | |
特開 2011-46002 | セラミック成形体の製造方法 | 2011年 3月10日 | |
特開 2011-49461 | 半導体素子用エピタキシャル基板、半導体素子、および、半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法 | 2011年 3月10日 | |
再表 2009-57535 | 電気機械変換素子の電気機械特性検査方法 | 2011年 3月10日 | |
特開 2011-49467 | 半導体素子用エピタキシャル基板、半導体素子、および、半導体素子用エピタキシャル基板の作製方法 | 2011年 3月10日 | |
特開 2011-41946 | 排ガス浄化用ハニカム構造体及び排ガス浄化用ハニカム触媒体 | 2011年 3月 3日 | |
特開 2011-44743 | エピタキシャル基板の製造方法 | 2011年 3月 3日 | |
特開 2011-37240 | ハニカム構造体の製造方法 | 2011年 2月24日 |
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2011-52906 2011-51800 2011-52544 2011-52919 2011-52843 2011-51855 2011-54457 2009-57473 2011-46002 2011-49461 2009-57535 2011-49467 2011-41946 2011-44743 2011-37240
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2月19日(水) - 東京 港区
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2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月19日(水) - 東京 港区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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