特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社ブイ・テクノロジー

※ ログインすれば出願人(株式会社ブイ・テクノロジー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第606位　53件（2013年：第448位　90件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第644位　49件（2013年：第712位　45件）

（ランキング更新日：2025年1月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-153371	レーザリペア装置	2014年 8月25日
特開 2014-150520	光インターコネクション装置	2014年 8月21日
特開 2014-146470	蒸着マスクの製造方法及びレーザ加工装置	2014年 8月14日
特開 2014-139991	レーザアニール方法、レーザアニール装置	2014年 7月31日
特開 2014-135571	撮像装置	2014年 7月24日
特開 2014-130112	走査露光用マイクロレンズアレイの検査装置及び検査方法	2014年 7月10日
特開 2014-126718	半導体光集積回路	2014年 7月 7日
特開 2014-125671	蒸着マスク及びその製造方法	2014年 7月 7日	共同出願
特開 2014-122384	蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスク	2014年 7月 3日
特開 2014-121720	蒸着マスクの製造方法	2014年 7月 3日
特開 2014-115482	投影露光装置及び投影露光方法	2014年 6月26日
特開 2014-103279	露光装置	2014年 6月 5日
特開 2014-102445	液晶表示パネルの輝点欠陥除去方法及び装置	2014年 6月 5日
特開 2014-101539	蒸着マスクの製造方法	2014年 6月 5日
特開 2014-98853	偏光フィルムの貼り合わせ位置検査装置	2014年 5月29日

53 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-153371 2014-150520 2014-146470 2014-139991 2014-135571 2014-130112 2014-126718 2014-125671 2014-122384 2014-121720 2014-115482 2014-103279 2014-102445 2014-101539 2014-98853

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ブイ・テクノロジーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数