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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第606位 53件
(2013年:第448位 90件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第644位 49件
(2013年:第712位 45件)
(ランキング更新日:2025年5月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2014-98194 | 蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスク | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-98195 | 薄膜パターン形成方法及びアライメント装置並びに蒸着装置 | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-98196 | 蒸着マスクの製造方法 | 2014年 5月29日 | |
特開 2014-96458 | 光インターコネクション装置 | 2014年 5月22日 | |
特開 2014-95775 | 偏光フィルムの貼り合わせ位置検査装置 | 2014年 5月22日 | |
再表 2012-81098 | 配向処理装置及び配向処理方法 | 2014年 5月22日 | |
特開 2014-96684 | 光インターコネクション装置 | 2014年 5月22日 | |
特開 2014-91860 | 蒸着マスクの製造方法 | 2014年 5月19日 | 共同出願 |
特開 2014-88594 | 蒸着マスク | 2014年 5月15日 | |
特開 2014-81546 | 半導体発光装置 | 2014年 5月 8日 | |
特開 2014-77186 | メタルマスクの製造方法 | 2014年 5月 1日 | |
特開 2014-72498 | 半導体発光・受光素子の製造方法及び半導体発光・受光素子 | 2014年 4月21日 | |
特開 2014-60184 | 低温ポリシリコン膜の形成方法及び薄膜トランジスタの製造方法 | 2014年 4月 3日 | |
特開 2014-59170 | 半導体リングレーザー装置 | 2014年 4月 3日 | |
特開 2014-52615 | 光配向露光用マスク、光配向露光装置 | 2014年 3月20日 |
53 件中 31-45 件を表示
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2014-98194 2014-98195 2014-98196 2014-96458 2014-95775 2012-81098 2014-96684 2014-91860 2014-88594 2014-81546 2014-77186 2014-72498 2014-60184 2014-59170 2014-52615
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5月13日(火) - 東京 港区
5月14日(水) - 東京 港区
5月14日(水) -
5月15日(木) - 東京 港区
5月16日(金) - 東京 千代田区
5月16日(金) -
5月16日(金) - 東京 千代田区
5月16日(金) -
5月12日(月) -
5月19日(月) -
5月20日(火) - 東京 品川区
5月20日(火) -
5月21日(水) - 東京 港区
5月21日(水) - 東京 大田区
5月22日(木) - 東京 港区
5月22日(木) -
5月23日(金) - 東京 千代田区
5月23日(金) - 大阪 大阪市
5月19日(月) -
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