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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第448位 90件
(2012年:第528位 66件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第712位 45件
(2012年:第1187位 23件)
(ランキング更新日:2025年3月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-76966 | 露光装置 | 2013年 4月25日 | |
特開 2013-73073 | フォトマスク | 2013年 4月22日 | |
特開 2013-68764 | 露光装置 | 2013年 4月18日 | |
特開 2013-64872 | 露光装置 | 2013年 4月11日 | |
特開 2013-65446 | 薄膜パターン形成方法 | 2013年 4月11日 | |
特開 2013-57894 | 露光装置用のアライメント装置 | 2013年 3月28日 | |
特開 2013-54315 | 露光装置 | 2013年 3月21日 | |
特開 2013-50709 | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 | 2013年 3月14日 | |
特開 2013-44971 | フィルム露光装置 | 2013年 3月 4日 | |
特開 2013-44972 | フィルム露光装置 | 2013年 3月 4日 | |
特開 2013-44970 | マイクロレンズアレイの製造方法及びマイクロレンズアレイ | 2013年 3月 4日 | |
特開 2013-41938 | レーザードーピング方法及びレーザードーピング装置 | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-40980 | パルス幅拡張装置 | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-40058 | 自己組織化方法及びそれを使用したエピタキシャル成長方法 | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-41685 | 真空蒸着方法、真空蒸着装置、有機EL表示装置の製造方法及び有機EL表示装置 | 2013年 2月28日 |
90 件中 61-75 件を表示
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2013-76966 2013-73073 2013-68764 2013-64872 2013-65446 2013-57894 2013-54315 2013-50709 2013-44971 2013-44972 2013-44970 2013-41938 2013-40980 2013-40058 2013-41685
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3月24日(月) -
3月25日(火) - 東京 品川区
3月25日(火) -
3月26日(水) - 東京 港区
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月24日(月) -
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