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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第448位 90件
（
2012年：第528位 66件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第712位 45件
（2012年：第1187位 23件）
（ランキング更新日：2026年1月23日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5376379 | マイクロレンズアレイを使用した露光装置及び光学部材 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5354779 | 露光装置 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5354803 | 露光装置 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5354725 | 研磨テープ及びこの研磨テープを用いた微小突起研磨装置 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5344766 | フォトマスク及びそれを使用するレーザアニール装置並びに露光装置 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5344730 | 露光装置 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5318633 | 突起欠陥修正装置 | 2013年10月16日 | |
| 特許 5318449 | パターンの欠陥修正方法 | 2013年10月16日 | |
| 特許 5308920 | レーザダンパー | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5298339 | アライメント方法及びアライメント装置 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5294490 | フォトマスク | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5294489 | 露光方法及び露光装置 | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5294488 | 露光装置 | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5282261 | インク充填装置 | 2013年 9月 4日 | |
| 特許 5282941 | 近接露光装置 | 2013年 9月 4日 |
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5376379 5354779 5354803 5354725 5344766 5344730 5318633 5318449 5308920 5298339 5294490 5294489 5294488 5282261 5282941
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