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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第448位 90件
（
2012年：第528位 66件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第712位 45件
（2012年：第1187位 23件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-41938 | レーザードーピング方法及びレーザードーピング装置 | 2013年 2月28日 | |
| 特開 2013-37022 | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 | 2013年 2月21日 | |
| 特開 2013-38350 | 露光装置用のアライメント装置 | 2013年 2月21日 | |
| 特開 2013-37034 | 被露光基板のアライメント補正方法及び露光装置 | 2013年 2月21日 | |
| 特開 2013-37031 | フォトマスク | 2013年 2月21日 | |
| 特開 2013-33813 | マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置 | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-33071 | マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置 | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-29326 | 有機ＥＬパネルの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 | 2013年 2月 7日 | |
| 特開 2013-29749 | フォトマスク及び露光装置 | 2013年 2月 7日 | |
| 特開 2013-25054 | シール剤の硬化処理装置及び硬化処理方法 | 2013年 2月 4日 | |
| 特開 2013-25053 | シール剤の硬化処理装置及び硬化処理方法 | 2013年 2月 4日 | |
| 特開 2013-20764 | 薄膜パターン形成方法及び有機ＥＬ表示装置の製造方法。 | 2013年 1月31日 | |
| 特開 2013-21133 | レーザ用アッテネータ及びレーザ発生装置 | 2013年 1月31日 | |
| 特開 2013-21267 | パルスレーザ発振器及びパルスレーザ発振制御方法 | 2013年 1月31日 | |
| 特開 2013-21268 | パルスレーザ発振器及びパルスレーザ発振制御方法 | 2013年 1月31日 |
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2013-41938 2013-37022 2013-38350 2013-37034 2013-37031 2013-33813 2013-33071 2013-29326 2013-29749 2013-25054 2013-25053 2013-20764 2013-21133 2013-21267 2013-21268
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