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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第176位 256件
(2011年:第215位 199件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第224位 173件
(2011年:第185位 194件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4907708 | 高純度Ru粉末、該高純度Ru粉末を焼結して得るスパッタリングターゲット及び該ターゲットをスパッタリングして得た薄膜並びに高純度Ru粉末の製造方法 | 2012年 4月 4日 | |
特許 4907528 | スパッタリングターゲット | 2012年 3月28日 | |
特許 4900350 | 高純度マンガンを得る製造方法 | 2012年 3月21日 | |
特許 4901110 | 化合物半導体エピタキシャル結晶及びその成長方法 | 2012年 3月21日 | |
特許 4897113 | パーティクルの発生の少ないスパッタリングターゲット及び同ターゲットの製造方法 | 2012年 3月14日 | |
特許 4890546 | 粗化処理面を備えた圧延銅又は銅合金箔及び圧延銅又は銅合金箔の粗化方法 | 2012年 3月 7日 | |
特許 4889801 | 電子部品用チタン銅の製造方法 | 2012年 3月 7日 | |
特許 4889045 | スルーホールを有するプリント配線基板への無電解めっき用触媒、及びその触媒を用いて処理されたスルーホールを有するプリント配線基板 | 2012年 2月29日 | |
特許 4885305 | 焼結体ターゲット及び焼結体の製造方法 | 2012年 2月29日 | |
特許 4885065 | スッパタリング用タングステン焼結体ターゲットの製造方法 | 2012年 2月29日 | |
特許 4885274 | アモルファス複合酸化膜、結晶質複合酸化膜、アモルファス複合酸化膜の製造方法および結晶質複合酸化膜の製造方法 | 2012年 2月29日 | |
特許 4885333 | 強磁性材スパッタリングターゲット | 2012年 2月29日 | |
特許 4884561 | インジウムターゲット及びその製造方法 | 2012年 2月29日 | |
特許 4880870 | 疲労特性に優れたチタン銅条 | 2012年 2月22日 | |
特許 4879986 | スパッタリングターゲット/バッキングプレート接合体 | 2012年 2月22日 |
173 件中 136-150 件を表示
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4907708 4907528 4900350 4901110 4897113 4890546 4889801 4889045 4885305 4885065 4885274 4885333 4884561 4880870 4879986
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