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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第158位 313件
(2012年:第176位 256件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第176位 235件
(2012年:第224位 173件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5208556 | 精密プレス加工に適したチタン銅及び該チタン銅の製造方法 | 2013年 6月12日 | |
特許 5209115 | ニッケル合金スパッタリングターゲット、Ni合金薄膜及びニッケルシリサイド膜 | 2013年 6月12日 | |
特許 5208555 | 電子部品用チタン銅 | 2013年 6月12日 | |
特許 5202643 | Cu−Ga合金焼結体スパッタリングターゲット及び同ターゲットの製造方法 | 2013年 6月 5日 | |
特許 5204908 | キャリア付銅箔、キャリア付銅箔の製造方法、プリント配線板用キャリア付銅箔及びプリント配線板 | 2013年 6月 5日 | |
特許 5202630 | スパッタリング用酸化物焼結体ターゲット及びその製造方法 | 2013年 6月 5日 | |
特許 5203420 | 相変化型メモリー用スパッタリングターゲットの製造方法 | 2013年 6月 5日 | |
特許 5198741 | 転炉排ガスの処理装置 | 2013年 5月15日 | |
特許 5192000 | IZOスクラップからの有価金属の回収方法 | 2013年 5月 8日 | |
特許 5188823 | 金属被覆ポリイミド複合体、同複合体の製造方法及び同複合体の製造装置 | 2013年 4月24日 | |
特許 5189683 | 圧延銅合金箔 | 2013年 4月24日 | |
特許 5189229 | 高純度ランタンの製造方法、高純度ランタン、高純度ランタンからなるスパッタリングターゲット及び高純度ランタンを主成分とするメタルゲート膜 | 2013年 4月24日 | |
特許 5189021 | ガス化溶融炉の操業方法 | 2013年 4月24日 | |
特許 5185066 | 屈曲性に優れた銅箔、その製造方法及びフレキシブル銅貼積層板 | 2013年 4月17日 | |
特許 5183818 | インジウム製スパッタリングターゲット部材及びその製造方法 | 2013年 4月17日 |
235 件中 166-180 件を表示
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5208556 5209115 5208555 5202643 5204908 5202630 5203420 5198741 5192000 5188823 5189683 5189229 5189021 5185066 5183818
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6月16日(月) - 東京 大田
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