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日立化成株式会社

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　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第63位　557件（2013年：第95位　431件）

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日立化成株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5581643	ウレタン樹脂組成物、硬化体及び硬化体を用いた光半導体装置	2014年 9月 3日
特許 5582187	スラリ、研磨液セット、研磨液及びこれらを用いた基板の研磨方法	2014年 9月 3日
特許 5582189	感光性導電フィルム、導電膜の形成方法及び導電パターンの形成方法	2014年 9月 3日
特許 5581576	フラックス活性剤、接着剤樹脂組成物、接着ペースト、接着フィルム、半導体装置の製造方法、及び半導体装置	2014年 9月 3日
特許 5582346	プリプレグおよび成形体の製造方法	2014年 9月 3日
特許 5582348	感光性樹脂組成物及び感光性フィルム	2014年 9月 3日
特許 5578016	接着シート、接着シートの製造方法、半導体装置の製造方法、及び半導体装置	2014年 8月27日
特許 5577635	接着剤組成物、回路接続用接着剤及び回路接続体	2014年 8月27日
特許 5578174	半導体封止用フィルム状接着剤、半導体装置及びその製造方法	2014年 8月27日
特許 5577837	金属箔張り積層板及びその製造方法、並びにこれを用いたプリント配線板	2014年 8月27日
特許 5577640	半導体装置の製造方法	2014年 8月27日
特許 5574145	多層配線板の製造方法及び圧力調整用治具	2014年 8月20日
特許 5572936	熱硬化性光反射用樹脂組成物、これを用いた光半導体素子搭載用基板及びその製造方法、並びに光半導体装置	2014年 8月20日
特許 5573488	ＣＭＰ研磨液の製造方法及び基板の研磨方法	2014年 8月20日
特許 5573234	ＣＭＰ研磨液及びこのＣＭＰ研磨液を用いた基板の研磨方法	2014年 8月20日

557 件中 121-135 件を表示

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5581643 5582187 5582189 5581576 5582346 5582348 5578016 5577635 5578174 5577837 5577640 5574145 5572936 5573488 5573234

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