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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第260位 156件 (2010年:第335位 133件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第403位 82件 (2010年:第188位 176件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-35090 | 真空搬送装置及び表示装置の製造方法 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-34705 | プラズマ処理装置 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-32550 | スパッタリング装置及び表示用素子の製造方法 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-32527 | 真空処理装置 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-35008 | 基板加熱装置、加熱処理方法および半導体デバイスを製造する方法 | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-29540 | 真空処理装置及び基板搬送装置並びに成膜方法 | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-26624 | プラズマ処理装置 | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-29478 | 誘電体膜、誘電体膜を用いた半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 | 2011年 2月10日 | |
再表 2009-44474 | 真空薄膜形成加工装置 | 2011年 2月 3日 | |
特開 2011-23629 | ドライエッチング方法、電子デバイスの製造方法、ドライエッチング装置、処理制御プログラム及び記録媒体 | 2011年 2月 3日 | |
特開 2011-17088 | スパッタ成膜応用のためのプラズマ処理装置 | 2011年 1月27日 | |
特開 2011-18693 | 磁性媒体の製造法及び成膜装置 | 2011年 1月27日 | |
特開 2011-14679 | 磁性素子の製造法及び記憶媒体 | 2011年 1月20日 | |
特開 2011-14677 | 磁性素子の製造法及び記憶媒体 | 2011年 1月20日 | |
特開 2011-14881 | 磁気素子の製造方法と装置 | 2011年 1月20日 |
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2011-35090 2011-34705 2011-32550 2011-32527 2011-35008 2011-29540 2011-26624 2011-29478 2009-44474 2011-23629 2011-17088 2011-18693 2011-14679 2011-14677 2011-14881
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10月7日(月) -
10月7日(月) - 大阪 大阪市
10月8日(火) - 東京 品川
10月8日(火) - 東京 中央区
10月9日(水) - 東京 港
10月9日(水) -
10月10日(木) - 東京 港
10月10日(木) -
10月11日(金) -
10月11日(金) - 兵庫 神戸市
10月11日(金) -
10月11日(金) -
10月7日(月) -
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