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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 件
（
2010年： 件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 件
（2010年： 件）
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4845455 | 薄膜作製装置及び薄膜作製方法 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4838357 | 真空搬送装置 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4837189 | 基板保持機構及び基板処理装置 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4833088 | 高温リフロースパッタリング装置 | 2011年12月 7日 | |
| 特許 4833014 | 高温リフロースパッタリング装置 | 2011年12月 7日 | |
| 特許 4801709 | ＣＶＤ装置を用いた成膜方法 | 2011年10月26日 | 共同出願 |
| 特許 4794559 | 真空処理装置および半導体デバイス製造方法 | 2011年10月19日 | |
| 特許 4796154 | 電子銃蒸着装置及び電子銃蒸着装置を用いた成膜方法 | 2011年10月19日 | |
| 特許 4791637 | ＣＶＤ装置とこれを用いた処理方法 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4792060 | マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4792132 | 誘電体ならびに半導体装置の製造方法、プログラム、および、記録媒体 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4791520 | クライオポンプ装置、真空処理装置及びクライオポンプ装置の動作方法 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4782037 | 磁気抵抗効果素子の製造方法及び製造装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4776239 | 液剤注入方法及び液剤注入装置 | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4776061 | 薄膜形成装置 | 2011年 9月21日 |
82 件中 1-15 件を表示
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4845455 4838357 4837189 4833088 4833014 4801709 4794559 4796154 4791637 4792060 4792132 4791520 4782037 4776239 4776061
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