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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第260位 156件 (2010年:第335位 133件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第403位 82件 (2010年:第188位 176件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-228510 | 基板処理装置、及び、基板移載方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-216658 | 不揮発性記憶素子およびその製造方法 | 2011年10月27日 | |
特開 2011-202217 | マグネトロンスパッタリング装置、及び、スパッタリング方法 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-202270 | 真空処理装置及び真空処理方法 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-205057 | 金属窒化膜、該金属窒化膜を用いた半導体装置、および半導体装置の製造方法 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-202190 | スパッタリング装置及びスパッタリング方法 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-204369 | ニュートラライザ及びこれを備えたイオンビーム装置 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-205878 | 真空アクチュエータ及び基板搬送ロボット | 2011年10月13日 | |
再表 2009-144810 | シリサイド形成方法とその装置 | 2011年 9月29日 | |
特開 2011-190032 | 基板搬送装置 | 2011年 9月29日 | |
特開 2011-190530 | シャッター装置及び真空処理装置 | 2011年 9月29日 | |
特開 2011-190522 | 真空処理装置 | 2011年 9月29日 | |
再表 2009-142223 | スパッタリング用ターゲット、薄膜の製造法及び表示装置 | 2011年 9月29日 | |
特開 2011-191887 | 真空処理装置およびその制御方法、制御プログラムおよびその記録媒体 | 2011年 9月29日 | |
特開 2011-187938 | トレイ式基板搬送システム、成膜方法及び電子装置の製造方法 | 2011年 9月22日 |
156 件中 16-30 件を表示
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2011-228510 2011-216658 2011-202217 2011-202270 2011-205057 2011-202190 2011-204369 2011-205878 2009-144810 2011-190032 2011-190530 2011-190522 2009-142223 2011-191887 2011-187938
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10月4日(金) - 北海道 札幌市
10月4日(金) - 北海道 札幌市
10月7日(月) -
10月7日(月) - 大阪 大阪市
10月8日(火) - 東京 品川
10月8日(火) - 東京 中央区
10月9日(水) - 東京 港
10月9日(水) -
10月10日(木) - 東京 港
10月10日(木) -
10月11日(金) -
10月11日(金) - 兵庫 神戸市
10月11日(金) -
10月11日(金) -
10月7日(月) -
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