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キヤノンアネルバ株式会社

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　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第347位　119件（2011年：第260位　156件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第926位　32件（2011年：第403位　82件）

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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
再表 2010-110123	基板処理方法および結晶性炭化ケイ素（ＳｉＣ）基板の製造方法	2012年 9月27日
再表 2010-100710	基板処理装置、磁気デバイスの製造装置及び製造方法	2012年 9月 6日
再表 2010-98121	誘電体ならびに半導体装置の製造方法、プログラム、および、記録媒体	2012年 8月30日
再表 2010-90127	プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、および被処理基板を備える素子の製造方法	2012年 8月 9日
特開 2012-149338	磁石ユニットおよびマグネトロンスパッタリング装置	2012年 8月 9日
特開 2012-149339	スパッタリング装置、及び電子デバイスの製造方法	2012年 8月 9日
特開 2012-149340	スパッタリング装置	2012年 8月 9日
特開 2012-151447	基板処理方法、基板処理装置	2012年 8月 9日
特開 2012-142331	基板の搬送装置	2012年 7月26日
特開 2012-140648	スパッタリング装置及びそのスパッタリング方法	2012年 7月26日
特開 2012-142398	イオンビームエッチング装置、方法及び制御装置	2012年 7月26日
特開 2012-142332	電子部品の製造方法	2012年 7月26日
特開 2012-142333	基板熱処理装置	2012年 7月26日
特開 2012-142397	基板処理システム、プロセスモジュール制御装置、基板処理装置及び基板処理プログラム	2012年 7月26日
特開 2012-140672	スパッタリング装置	2012年 7月26日

119 件中 16-30 件を表示

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2010-110123 2010-100710 2010-98121 2010-90127 2012-149338 2012-149339 2012-149340 2012-151447 2012-142331 2012-140648 2012-142398 2012-142332 2012-142333 2012-142397 2012-140672

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