特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キヤノンアネルバ株式会社

※ ログインすれば出願人(キヤノンアネルバ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第870位　33件（2013年：第724位　46件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第412位　88件（2013年：第654位　50件）

（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
再表 2012-90475	スパッタリング装置	2014年 6月 5日
再表 2012-90422	エピタキシャル膜形成方法、スパッタリング装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、および照明装置	2014年 6月 5日
再表 2012-90474	電極膜の加工方法、磁性膜の加工方法、磁性膜を有する積層体、および該積層体の製造方法	2014年 6月 5日
再表 2012-90482	半導体装置の製造方法および装置	2014年 6月 5日
再表 2012-90484	ＣＶＤ装置及びＣＶＤ方法	2014年 6月 5日
再表 2012-86012	基板熱処理装置	2014年 5月22日
再表 2012-73449	プラズマ処理装置	2014年 5月19日
再表 2012-73471	不揮発性記憶素子およびその製造方法	2014年 5月19日
特開 2014-75372	静電吸着装置	2014年 4月24日
特開 2014-74188	スパッタリング装置およびスパッタリング方法	2014年 4月24日
特開 2014-58698	スパッタリング装置	2014年 4月 3日
特開 2014-47369	スパッタリング装置およびマグネットアセンブリ	2014年 3月17日
特開 2014-40670	遮蔽部材	2014年 3月 6日
特開 2014-38874	プラズマ誘起ＣＶＤ方法	2014年 2月27日
再表 2012-46397	基板処理装置	2014年 2月24日

33 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-90475 2012-90422 2012-90474 2012-90482 2012-90484 2012-86012 2012-73449 2012-73471 2014-75372 2014-74188 2014-58698 2014-47369 2014-40670 2014-38874 2012-46397

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キヤノンアネルバ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数