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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第870位 33件
（
2013年：第724位 46件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第412位 88件
（
2013年：第654位 50件）
（ランキング更新日：2025年2月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5647351 | 磁気抵抗効果素子の製造方法及び磁気抵抗効果膜の加工方法 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5647336 | プラズマ処理装置 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5639195 | 電極膜の加工方法、磁性膜の加工方法、磁性膜を有する積層体、および該積層体の製造方法 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5632736 | 基板搬送装置及び真空処理装置 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5632072 | 成膜装置 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5632644 | 冷陰極電離真空計、放電開始補助電極及び真空処理装置 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5632946 | 遮蔽部材 | 2014年11月26日 | |
| 特許 5624931 | スピネルフェライト薄膜の製造方法 | 2014年11月12日 | |
| 特許 5620090 | 基板処理装置、熱処理基板の製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2014年11月 5日 | |
| 特許 5620172 | 基板搬送装置、電子デバイスの製造システムおよび電子デバイスの製造方法 | 2014年11月 5日 | |
| 特許 5611803 | 反応性スパッタリング装置 | 2014年10月22日 | |
| 特許 5612707 | プラズマＣＶＤ装置 | 2014年10月22日 | |
| 特許 5607760 | ＣＶＤ装置及びＣＶＤ方法 | 2014年10月15日 | |
| 特許 5603472 | スピンバルブ型トンネル磁気抵抗素子の製造方法 | 2014年10月 8日 | |
| 特許 5603219 | 薄膜形成装置 | 2014年10月 8日 |
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5647351 5647336 5639195 5632736 5632072 5632644 5632946 5624931 5620090 5620172 5611803 5612707 5607760 5603472 5603219
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