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キヤノンアネルバ株式会社

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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2012-136757	真空装置用部品および、それを備えた成膜装置	2012年 7月19日
特開 2012-136756	スパッタリング方法	2012年 7月19日
特開 2012-136721	真空処理装置	2012年 7月19日
特開 2012-136320	搬送装置及び真空処理装置	2012年 7月19日
再表 2010-84909	磁性膜加工チャンバのクリーニング方法、磁性素子の製造方法、および基板処理装置	2012年 7月19日
特開 2012-138411	プラズマ処理装置	2012年 7月19日
特開 2012-136758	基板処理装置	2012年 7月19日
特開 2012-136774	成膜装置	2012年 7月19日
特開 2012-138522	基板搬送装置及び真空処理装置	2012年 7月19日
特開 2012-138524	基板搬送装置及び真空処理装置	2012年 7月19日
特開 2012-132039	スパッタリング装置およびスパッタリング方法	2012年 7月12日
特開 2012-130873	真空容器、及び、真空容器を備える真空処理装置	2012年 7月12日
特開 2012-132075	真空処理装置、及び、それを用いた処理方法	2012年 7月12日
特開 2012-134370	チャンバ、真空処理装置、基板移載方法	2012年 7月12日
特開 2012-131585	搬送機構、及び、それを備えた真空処理装置	2012年 7月12日

119 件中 31-45 件を表示

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2012-136757 2012-136756 2012-136721 2012-136320 2010-84909 2012-138411 2012-136758 2012-136774 2012-138522 2012-138524 2012-132039 2012-130873 2012-132075 2012-134370 2012-131585

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