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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第260位 156件
(2010年:第335位 133件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第403位 82件
(2010年:第188位 176件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-149094 | 成膜装置及びクリーニング方法 | 2011年 8月 4日 | |
特開 2011-149104 | スパッタリング装置、スパッタリング方法及び電子デバイスの製造方法 | 2011年 8月 4日 | |
特開 2011-149929 | リークチェック方法 | 2011年 8月 4日 | |
特開 2011-144450 | スパッタリング装置及びスパッタリング方法 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-146690 | イオンビーム発生装置及びこれを用いた基板処理装置と電子デバイス製造方法 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-144922 | ゲートバルブ、フィルム製造装置、及び、フィルム製造方法 | 2011年 7月28日 | |
再表 2009-118888 | 真空処理装置、当該真空処理装置を用いた画像表示装置の製造方法及び当該真空処理装置により製造される電子装置 | 2011年 7月21日 | |
特開 2011-137242 | 成膜装置及び成膜装置用ストックチャンバー | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138835 | 搬送振動監視装置及び真空処理装置並びに搬送振動監視方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-137666 | 温度測定装置 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-137205 | スパッタ成膜装置および膜の製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-137191 | 真空アーク蒸着装置 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-137187 | 真空蒸着装置および薄膜形成方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-137423 | クライオポンプ、基板処理装置、電子デバイスの製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138828 | 加熱装置及び基板処理装置 | 2011年 7月14日 |
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2011-149094 2011-149104 2011-149929 2011-144450 2011-146690 2011-144922 2009-118888 2011-137242 2011-138835 2011-137666 2011-137205 2011-137191 2011-137187 2011-137423 2011-138828
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3月26日(水) - 東京 港区
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4月1日(火) - 山口 山口市
4月1日(火) -
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4月2日(水) -
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