特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キヤノンアネルバ株式会社

※ ログインすれば出願人(キヤノンアネルバ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第347位　119件（2011年：第260位　156件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第926位　32件（2011年：第403位　82件）

（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2012-132064	反応性スパッタリング装置	2012年 7月12日
特開 2012-132039	スパッタリング装置およびスパッタリング方法	2012年 7月12日
特開 2012-130873	真空容器、及び、真空容器を備える真空処理装置	2012年 7月12日
特開 2012-129224	イオンビームエッチング方法、イオンビームエッチング装置、コンピュータプログラム、記録媒体	2012年 7月 5日
特開 2012-127386	真空容器	2012年 7月 5日
特開 2012-126939	成膜装置	2012年 7月 5日
特開 2012-124185	磁気抵抗素子	2012年 6月28日
特開 2012-124362	絶縁性基板の静電吸着方法	2012年 6月28日
特開 2012-121715	搬送機構、及び、これを用いた真空処理装置	2012年 6月28日
特開 2012-124406	基板の搬送方法	2012年 6月28日
特開 2012-119088	プラズマ処理装置	2012年 6月21日
再表 2010-74076	基板処理方法、基板処理装置、ＭＯＳ−ＦＥＴの製造方法、不揮発メモリの製造方法、およびコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2012年 6月21日
再表 2010-74250	スパッタ装置及び磁気記憶媒体の製造方法	2012年 6月21日
再表 2010-76863	基板処理システム及び基板処理装置	2012年 6月21日
再表 2010-76862	均一膜厚分布のためのスパッタ装置の磁界制御	2012年 6月21日

119 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-132064 2012-132039 2012-130873 2012-129224 2012-127386 2012-126939 2012-124185 2012-124362 2012-121715 2012-124406 2012-119088 2010-74076 2010-74250 2010-76863 2010-76862

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キヤノンアネルバ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数