特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キヤノンアネルバ株式会社

※ ログインすれば出願人(キヤノンアネルバ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第260位　156件（2010年：第335位　133件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第403位　82件（2010年：第188位　176件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2011-134375	成膜方法及び基板回転装置並びに真空処理装置	2011年 7月 7日
特開 2011-134992	温度制御装置およびこの温度制御装置を備える真空処理装置	2011年 7月 7日
特開 2011-134993	真空処理装置	2011年 7月 7日
特開 2011-134820	ウェハー搬送ロボット、及び、それを備えた基板処理装置	2011年 7月 7日
特開 2011-134674	イオンビーム発生装置	2011年 7月 7日
特開 2011-127136	スパッタリング装置および、該スパッタリング装置を用いた半導体デバイスの製造方法	2011年 6月30日
特開 2011-127183	ゲートバルブ、それを具備したフィルム製造装置、及び、それを用いたフィルム製造方法	2011年 6月30日
特開 2011-129270	イオンビーム発生器	2011年 6月30日
再表 2009-104789	抵抗変化素子の製造法	2011年 6月23日
特開 2011-122193	ガス導入装置、スパッタリング装置、およびスパッタリング方法	2011年 6月23日
特開 2011-124215	イオンビーム発生装置とそのクリーニング方法	2011年 6月23日
特開 2011-119708	基板保持装置、及び、プラズマ処理装置	2011年 6月16日
特開 2011-117085	ロードロック室及びそれを備えた薄膜形成装置	2011年 6月16日
再表 2009-102056	金属埋め込み方法及び凹部に金属を堆積させるための装置	2011年 6月16日	共同出願
特開 2011-114212	基板処理装置、該基板処理装置を制御する制御装置および基板処理方法	2011年 6月 9日

156 件中 76-90 件を表示

... 6

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-134375 2011-134992 2011-134993 2011-134820 2011-134674 2011-127136 2011-127183 2011-129270 2009-104789 2011-122193 2011-124215 2011-119708 2011-117085 2009-102056 2011-114212

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キヤノンアネルバ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数