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キヤノンアネルバ株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第347位 119件 下降2011年:第260位 156件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第926位 32件 下降2011年:第403位 82件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
再表 2010-38416 真空排気システム、基板処理装置、電子デバイスの製造方法、真空排気システムの運転方法 2012年 3月 1日
再表 2010-38415 真空排気システム、真空排気システムの運転方法、冷凍機、冷凍機の運転方法、基板処理装置、電子デバイスの製造方法 2012年 3月 1日
再表 2010-38272 基板ホルダー収納チャンバ、インライン型基板処理装置及び磁気ディスクの製造方法 2012年 2月23日
再表 2010-38384 膜形成装置並びにそれを用いた膜形成方法および膜製造方法 2012年 2月23日
再表 2010-38271 スパッタリング装置および薄膜形成方法 2012年 2月23日
特開 2012-37295 電離真空計 2012年 2月23日
特開 2012-31504 冷却装置および加熱装置 2012年 2月16日
特開 2012-28389 プラズマ処理装置 2012年 2月 9日
特開 2012-23940 アクチュエータ及び基板搬送ロボット 2012年 2月 2日
特開 2012-23315 基板搬送装置、電子デバイスの製造システムおよび電子デバイスの製造方法 2012年 2月 2日
再表 2010-29702 磁気抵抗素子の製造方法、該製造方法に用いる記憶媒体 2012年 2月 2日
再表 2010-29701 磁気抵抗素子とその製造方法、該製造方法に用いる記憶媒体 2012年 2月 2日
再表 2010-21078 磁石ユニットおよびマグネトロンスパッタリング装置 2012年 1月26日
再表 2010-26725 磁気抵抗素子とその製造方法、該製造方法に用いる記憶媒体 2012年 1月26日
再表 2010-26705 磁気抵抗素子とその製造方法、該製造方法に用いる記憶媒体 2012年 1月26日

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2010-38416 2010-38415 2010-38272 2010-38384 2010-38271 2012-37295 2012-31504 2012-28389 2012-23940 2012-23315 2010-29702 2010-29701 2010-21078 2010-26725 2010-26705

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