特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キヤノンアネルバ株式会社

※ ログインすれば出願人(キヤノンアネルバ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第260位　156件（2010年：第335位　133件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第403位　82件（2010年：第188位　176件）

（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-96446	平均自由行程を測定する装置、真空計、および平均自由行程を測定する方法	2011年 5月12日
再表 2009-81953	スパッタ装置、スパッタ成膜方法及び分析装置	2011年 5月 6日
再表 2009-81952	基板ホルダー、基板ホルダーを用いた成膜方法、ハードディスクの製造方法、成膜装置、プログラム	2011年 5月 6日
特開 2011-90759	磁気センサ積層体、その成膜方法、成膜制御プログラムおよび記録媒体	2011年 5月 6日
特開 2011-84770	静電チャックを備えた基板ホルダを用いた基板温度制御方法	2011年 4月28日
再表 2009-78094	プラズマ処理装置	2011年 4月28日
特開 2011-86403	コンバージョン型イオン検出ユニット	2011年 4月28日
特開 2011-81418	ディスプレイ製造装置	2011年 4月21日
特開 2011-74487	真空処理装置及び基板移載方法	2011年 4月14日
特開 2011-74440	ＣＶＤ装置及び薄膜の製造方法	2011年 4月14日
再表 2009-69743	基板処理装置、及び基板処理方法	2011年 4月14日
特開 2011-71526	磁気抵抗効果素子の製造方法	2011年 4月 7日
特開 2011-63876	ガス供給装置及び真空処理装置	2011年 3月31日
特開 2011-63832	スパッタリング装置及び表示用素子の製造方法	2011年 3月31日
再表 2009-66390	スパッタ装置およびスパッタ方法	2011年 3月31日

156 件中 106-120 件を表示

... 8

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-96446 2009-81953 2009-81952 2011-90759 2011-84770 2009-78094 2011-86403 2011-81418 2011-74487 2011-74440 2009-69743 2011-71526 2011-63876 2011-63832 2009-66390

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キヤノンアネルバ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数