特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キヤノンアネルバ株式会社

※ ログインすれば出願人(キヤノンアネルバ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第260位　156件（2010年：第335位　133件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第403位　82件（2010年：第188位　176件）

（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-64513	温度測定素子、温度測定装置、基板処理装置及び電子デバイスの製造方法	2011年 3月31日
再表 2009-60541	インライン型ウェハ搬送装置	2011年 3月17日
再表 2009-60540	インライン型ウェハ搬送装置	2011年 3月17日
再表 2009-60539	インライン型ウェハ搬送装置および基板搬送方法	2011年 3月17日
特開 2011-47515	駆動装置及び真空処理装置	2011年 3月10日
特開 2011-47040	裏板及びスパッタリング装置	2011年 3月10日
特開 2011-46990	電圧印加装置及び基板処理装置	2011年 3月10日
特開 2011-46971	マスク位置合わせ機構及びマスク位置合わせ方法並びに真空処理装置	2011年 3月10日
再表 2009-57715	マグネトロンユニット、マグネトロンスパッタリング装置及び電子デバイスの製造方法	2011年 3月10日
特開 2011-48961	電子放出素子検査装置	2011年 3月10日
再表 2009-57223	表面処理装置およびその基板処理方法	2011年 3月10日
特開 2011-43164	真空排気システム	2011年 3月 3日
再表 2009-54062	サンドイッチ構造の磁化自由層を有する磁気トンネル接合素子	2011年 3月 3日
特開 2011-40496	磁性媒体の製造法及びスパッタリング装置	2011年 2月24日
特開 2011-32527	真空処理装置	2011年 2月17日

156 件中 121-135 件を表示

... 9

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-64513 2009-60541 2009-60540 2009-60539 2011-47515 2011-47040 2011-46990 2011-46971 2009-57715 2011-48961 2009-57223 2011-43164 2009-54062 2011-40496 2011-32527

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キヤノンアネルバ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数