※ ログインすれば出願人(HOYA株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2013年 出願公開件数ランキング 第99位 482件
(2012年:第80位 531件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第93位 434件
(2012年:第78位 484件)
(ランキング更新日:2025年7月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-140650 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク用ガラス基板 | 2013年 7月18日 | 共同出願 |
特開 2013-140649 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び化学強化用かご | 2013年 7月18日 | 共同出願 |
特開 2013-140237 | マスクブランク用合成石英ガラス基板の複屈折仕様決定方法、マスクブランク用合成石英ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 | 2013年 7月18日 | |
特開 2013-140332 | ズームレンズ系及びこれを備えた電子撮像装置 | 2013年 7月18日 | |
特開 2013-140300 | レンズ移動機構 | 2013年 7月18日 | |
特開 2013-141039 | 多層反射膜付基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 | 2013年 7月18日 | |
特開 2013-140236 | マスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 | 2013年 7月18日 | |
特開 2013-140669 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2013年 7月18日 | |
再表 2011-129364 | パターン検査装置およびパターン検査方法 | 2013年 7月18日 | |
再表 2011-125902 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2013年 7月11日 | |
再表 2011-125898 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2013年 7月11日 | |
再表 2011-125895 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2013年 7月11日 | |
再表 2011-125829 | レンズ形状測定装置 | 2013年 7月11日 | |
再表 2011-125844 | 眼鏡レンズのマーキング装置および眼鏡レンズのレイアウトマーク印刷方法 | 2013年 7月11日 | |
特開 2013-137576 | フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法 | 2013年 7月11日 |
482 件中 256-270 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2013-140650 2013-140649 2013-140237 2013-140332 2013-140300 2013-141039 2013-140236 2013-140669 2011-129364 2011-125902 2011-125898 2011-125895 2011-125829 2011-125844 2013-137576
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。HOYA株式会社の知財の動向チェックに便利です。
7月16日(水) -
7月17日(木) -
7月17日(木) -
7月18日(金) - 東京 千代田区
7月18日(金) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月23日(水) -
7月24日(木) -
7月24日(木) -
7月24日(木) -
7月25日(金) -
7月25日(金) -
7月25日(金) - 大阪 大阪市
7月25日(金) - 東京 立川市
【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
7月25日(金) -
7月25日(金) -
〒541-0046 大阪市中央区平野町2丁目2番9号 ビル皿井2階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
Floor 16, Tower A, InDo Building, A48 Zhichun Road, Haidian District, Beijing 100098, P.R. China 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
オーブ国際特許事務所(東京都)-ソフトウェア・電気電子分野専門
東京都千代田区飯田橋3-3-11新生ビル5階 特許・実用新案 商標 外国特許 鑑定