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HOYA株式会社

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  2013年 出願公開件数ランキング    第99位 482件 下降2012年:第80位 531件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第93位 434件 下降2012年:第78位 484件)

(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2013-140650 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク用ガラス基板 2013年 7月18日 共同出願
特開 2013-140649 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び化学強化用かご 2013年 7月18日 共同出願
特開 2013-140237 マスクブランク用合成石英ガラス基板の複屈折仕様決定方法、マスクブランク用合成石英ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 2013年 7月18日
特開 2013-140332 ズームレンズ系及びこれを備えた電子撮像装置 2013年 7月18日
特開 2013-140300 レンズ移動機構 2013年 7月18日
特開 2013-141039 多層反射膜付基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 2013年 7月18日
特開 2013-140236 マスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 2013年 7月18日
特開 2013-140669 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 2013年 7月18日
再表 2011-129364 パターン検査装置およびパターン検査方法 2013年 7月18日
再表 2011-125902 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 2013年 7月11日
再表 2011-125898 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 2013年 7月11日
再表 2011-125895 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 2013年 7月11日
再表 2011-125829 レンズ形状測定装置 2013年 7月11日
再表 2011-125844 眼鏡レンズのマーキング装置および眼鏡レンズのレイアウトマーク印刷方法 2013年 7月11日
特開 2013-137576 フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法 2013年 7月11日

482 件中 256-270 件を表示

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2013-140650 2013-140649 2013-140237 2013-140332 2013-140300 2013-141039 2013-140236 2013-140669 2011-129364 2011-125902 2011-125898 2011-125895 2011-125829 2011-125844 2013-137576

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