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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第99位 482件
(2012年:第80位 531件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第93位 434件
(2012年:第78位 484件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-136471 | 被成形ガラス素材の浮上搬送装置、及びガラス光学素子の製造方法 | 2013年 7月11日 | |
再表 2011-125902 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2013年 7月11日 | |
再表 2011-125898 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2013年 7月11日 | |
再表 2011-125895 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2013年 7月11日 | |
再表 2011-125829 | レンズ形状測定装置 | 2013年 7月11日 | |
再表 2011-125844 | 眼鏡レンズのマーキング装置および眼鏡レンズのレイアウトマーク印刷方法 | 2013年 7月11日 | |
特開 2013-137576 | フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法 | 2013年 7月11日 | |
特開 2013-137504 | 転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2013年 7月11日 | |
特開 2013-132867 | プラスチックレンズの製造方法 | 2013年 7月 8日 | |
特開 2013-132866 | プラスチックレンズの製造方法 | 2013年 7月 8日 | |
再表 2011-125477 | 磁気記録媒体ガラス基板用ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体ガラス基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法 | 2013年 7月 8日 | |
再表 2011-122303 | ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法 | 2013年 7月 8日 | |
再表 2011-122054 | ガラスブランク及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2013年 7月 8日 | |
特開 2013-134435 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、パターン転写方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 | 2013年 7月 8日 | |
再表 2011-125337 | 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスク | 2013年 7月 8日 |
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2013-136471 2011-125902 2011-125898 2011-125895 2011-125829 2011-125844 2013-137576 2013-137504 2013-132867 2013-132866 2011-125477 2011-122303 2011-122054 2013-134435 2011-125337
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7月18日(金) - 東京 千代田区
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7月23日(水) -
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7月24日(木) -
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7月25日(金) - 大阪 大阪市
7月25日(金) - 東京 立川市
【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
7月25日(金) -
7月25日(金) -
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