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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第100位 441件
(2013年:第99位 482件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第108位 377件
(2013年:第93位 434件)
(ランキング更新日:2025年7月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2014-209200 | マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 | 2014年11月 6日 | |
特開 2014-207937 | 内視鏡の放熱構造 | 2014年11月 6日 | |
特開 2014-204923 | 電子内視鏡および電子内視鏡システム | 2014年10月30日 | |
特開 2014-206729 | 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 | 2014年10月30日 | 共同出願 |
特開 2014-200540 | 眼観察装置 | 2014年10月27日 | |
特開 2014-200525 | 保管容器 | 2014年10月27日 | |
特開 2014-202697 | 直進移動体の位置検出装置 | 2014年10月27日 | |
特開 2014-204004 | 基板組立体、基板組立体の製造方法およびチップパッケージの製造方法 | 2014年10月27日 | |
特開 2014-202898 | レンズ鏡筒 | 2014年10月27日 | |
特開 2014-200621 | 眼科用観察装置及びその使用方法 | 2014年10月27日 | |
特開 2014-199704 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | 2014年10月23日 | |
特開 2014-199329 | 染色プラスチックレンズおよびその製造方法 | 2014年10月23日 | |
特開 2014-199847 | EUVリソグラフィー用マスクブランク用基板の製造方法、EUVリソグラフィー用多層反射膜付き基板の製造方法、EUVリソグラフィー用マスクブランクの製造方法、及びEUVリソグラフィー用転写マスクの製造方法 | 2014年10月23日 | |
特開 2014-199435 | ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法 | 2014年10月23日 | |
特開 2014-198089 | 走査型内視鏡 | 2014年10月23日 |
441 件中 46-60 件を表示
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2014-209200 2014-207937 2014-204923 2014-206729 2014-200540 2014-200525 2014-202697 2014-204004 2014-202898 2014-200621 2014-199704 2014-199329 2014-199847 2014-199435 2014-198089
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