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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第175位 303件 (2016年:第175位 251件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第181位 180件 (2016年:第141位 251件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6077755 | Cu−Zn−Sn−Ni−P系合金及びその製造方法 | 2017年 2月 8日 | |
特許 6078024 | 2次元六角形格子化合物製造用圧延銅箔、及び2次元六角形格子化合物の製造方法 | 2017年 2月 8日 | |
特許 6078189 | IZO焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2017年 2月 8日 | |
特許 6069397 | リチウムイオン電池用正極活物質の製造方法 | 2017年 2月 1日 | |
特許 6072117 | 銅微粒子ペースト及びその製造方法 | 2017年 2月 1日 | |
特許 6072962 | めっき付き金属基材 | 2017年 2月 1日 | |
特許 6072963 | めっき付き金属基材 | 2017年 2月 1日 | |
特許 6073268 | 高強度チタン銅箔及びその製造方法 | 2017年 2月 1日 | |
特許 6073947 | キャリア付銅箔、銅張積層板の製造方法、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | 2017年 2月 1日 | |
特許 6067855 | 低α線ビスマス及び低α線ビスマスの製造方法 | 2017年 1月25日 | |
特許 6067927 | 銅又は銅合金スパッタリングターゲット | 2017年 1月25日 | |
特許 6069023 | 圧延銅箔 | 2017年 1月25日 | |
特許 6062586 | 磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット | 2017年 1月18日 | |
特許 6058182 | キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | 2017年 1月11日 | |
特許 6058915 | 二次電池負極集電体用圧延銅箔又は圧延銅合金箔、それを用いたリチウムイオン二次電池用負極材及びリチウムイオン二次電池 | 2017年 1月11日 |
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6077755 6078024 6078189 6069397 6072117 6072962 6072963 6073268 6073947 6067855 6067927 6069023 6062586 6058182 6058915
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