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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第245位 178件 (2018年:第240位 177件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第177位 157件 (2018年:第151位 201件)
(ランキング更新日:2024年12月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6491617 | ビスマスの製造方法 | 2019年 3月27日 | |
特許 6483803 | 磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2019年 3月20日 | |
特許 6488354 | キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | 2019年 3月20日 | |
特許 6488355 | キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | 2019年 3月20日 | |
特許 6488356 | キャリア付銅箔、積層体、プリント配線板の製造方法及び電子機器の製造方法 | 2019年 3月20日 | |
特許 6483569 | リチウムイオン電池の処理方法 | 2019年 3月13日 | |
特許 6484276 | 磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2019年 3月13日 | |
特許 6480235 | リチウムイオン電池スクラップからの鉄及びアルミニウムの除去方法 | 2019年 3月 6日 | |
特許 6480237 | スコロダイトの製造方法 | 2019年 3月 6日 | |
特許 6480357 | Sb含有残渣の処理方法 | 2019年 3月 6日 | |
特許 6480358 | Sbの回収方法 | 2019年 3月 6日 | |
特許 6475526 | 強磁性材スパッタリングターゲット | 2019年 2月27日 | |
特許 6475540 | 表面処理された銅微粒子及びその製造方法 | 2019年 2月27日 | |
特許 6475541 | 表面処理された銅微粒子及びその製造方法 | 2019年 2月27日 | |
特許 6475781 | 表面処理銅箔、キャリア付銅箔、基材の製造方法、プリント配線板の製造方法、プリント回路板の製造方法、銅張積層板 | 2019年 2月27日 |
159 件中 121-135 件を表示
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6491617 6483803 6488354 6488355 6488356 6483569 6484276 6480235 6480237 6480357 6480358 6475526 6475540 6475541 6475781
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