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エヴァテック・アーゲー
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第2184位 10件
（
2021年：第3023位 6件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第2776位 6件
（2021年：第5802位 2件）
（ランキング更新日：2026年10月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エヴァテック・アーゲーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2022-553554 | 真空加工処理室、及び真空処理加工を用いて基板を処理する方法 | 2022年12月23日 | |
| 特表 2022-551162 | 基板支持ユニット並びに基板支持ユニットを使用して層を堆積するための装置及び方法 | 2022年12月 7日 | |
| 特表 2022-541291 | 圧電コーティングおよび堆積プロセス | 2022年 9月22日 | |
| 特表 2022-519663 | イオンを生成する方法および装置 | 2022年 3月24日 | |
| 特表 2022-514638 | 真空処理装置、および、少なくとも１つの基板の真空プラズマ処理または基板の製造のための方法 | 2022年 2月14日 | |
| 特表 2022-514421 | 化合物層を堆積させる真空システムおよび方法 | 2022年 2月10日 | |
| 特表 2022-505534 | 液体スパッタターゲット | 2022年 1月14日 | |
| 特表 2022-505749 | 圧電被覆のための堆積処理 | 2022年 1月14日 | |
| 特表 2022-504088 | プラズマ支援原子層堆積（ＰＥＡＬＤ）装置 | 2022年 1月13日 | |
| 特表 2022-504743 | 真空処理装置、及び基板を真空処理するための方法 | 2022年 1月13日 |
10 件中 1-10 件を表示
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2022-553554 2022-551162 2022-541291 2022-519663 2022-514638 2022-514421 2022-505534 2022-505749 2022-504088 2022-504743
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