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セメス カンパニー，リミテッド
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第1272位 18件
（
2023年：第455位 70件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第433位 64件
（2023年：第379位 81件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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セメス カンパニー，リミテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7451595 | 基板処理方法 | 2024年 3月18日 | |
| 特許 7450666 | 返送アセンブリー及びこれを有する基板処理装置 | 2024年 3月15日 | |
| 特許 7445698 | 基板処理装置及び方法 | 2024年 3月 7日 | |
| 特許 7442601 | 照射モジュール及びこれを含む基板処理装置 | 2024年 3月 4日 | |
| 特許 7441890 | 基板処理装置 | 2024年 3月 1日 | |
| 特許 7441906 | 液供給装置及び基板処理装置 | 2024年 3月 1日 | |
| 特許 7441292 | 減光液供給システム及び減光液管理方法 | 2024年 2月29日 | |
| 特許 7440578 | 支持ユニット、加熱ユニット及びこれを含む基板処理装置 | 2024年 2月28日 | |
| 特許 7440585 | トーションポンプ、薬液供給ユニット及び基板処理装置 | 2024年 2月28日 | |
| 特許 7437476 | 基板処理装置及び基板処理装置の運用方法 | 2024年 2月22日 | |
| 特許 7432664 | 支持ユニット及びこれを含む基板処理装置 | 2024年 2月16日 | |
| 特許 7432673 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2024年 2月16日 | |
| 特許 7427049 | 基板処理装置及び基板処理システム | 2024年 2月 2日 | |
| 特許 7425172 | 基板処理装置及び処理液帯電モニタリング方法 | 2024年 1月30日 | |
| 特許 7417577 | 基板処理装置及び方法 | 2024年 1月18日 |
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7451595 7450666 7445698 7442601 7441890 7441906 7441292 7440578 7440585 7437476 7432664 7432673 7427049 7425172 7417577
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