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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1160位 23件
(2014年:第1765位 13件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第2775位 5件
(2014年:第6584位 2件)
(ランキング更新日:2025年6月24日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5826524 | プラズマドーピング装置及びプラズマドーピング方法 | 2015年12月 2日 | |
特許 5822767 | イオン源装置及びイオンビーム生成方法 | 2015年11月24日 | |
特許 5808706 | イオン注入装置及びその制御方法 | 2015年11月10日 | |
特許 5767983 | イオン注入方法及びイオン注入装置 | 2015年 8月26日 | |
特許 5718169 | イオン注入装置及びイオン注入方法 | 2015年 5月13日 | |
特許 5701201 | イオン注入方法及びイオン注入装置 | 2015年 4月15日 | |
特許 5665679 | 不純物導入層形成装置及び静電チャック保護方法 | 2015年 2月 4日 |
7 件中 1-7 件を表示
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5826524 5822767 5808706 5767983 5718169 5701201 5665679
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