株式会社ＳＥＮ
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第1821位 12件
（
2017年：第2676位 8件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第1328位 14件
（
2017年：第1034位 20件）
（ランキング更新日：2025年4月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ＳＥＮの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6440809 | ビーム照射装置 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6415090 | イオン注入装置及びイオン注入方法 | 2018年10月31日 | |
| 特許 6415388 | プラズマ生成装置 | 2018年10月31日 | |
| 特許 6415486 | イオン注入装置のための高電圧電極の絶縁構造、イオン源装置、およびイオン注入装置 | 2018年10月31日 | |
| 特許 6410689 | イオン注入装置及びそれを用いた複数枚のウェハの処理方法 | 2018年10月24日 | |
| 特許 6403485 | イオン注入装置及びイオン注入方法 | 2018年10月10日 | |
| 特許 6388520 | ビーム引出スリット構造、イオン源、及びイオン注入装置 | 2018年 9月12日 | |
| 特許 6324223 | イオン注入装置及びイオン注入方法 | 2018年 5月16日 | |
| 特許 6324231 | イオン注入装置 | 2018年 5月16日 | |
| 特許 6278835 | イオン注入装置 | 2018年 2月14日 | |
| 特許 6275575 | イオン注入装置及びイオン注入装置の制御方法 | 2018年 2月 7日 | |
| 特許 6263240 | 半導体装置の製造方法 | 2018年 1月17日 | |
| 特許 6257411 | イオン注入装置、最終エネルギーフィルター、及びイオン注入方法 | 2018年 1月10日 | |
| 特許 6257455 | イオン注入装置及びイオン注入装置の制御方法 | 2018年 1月10日 |
14 件中 1-14 件を表示
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6440809 6415090 6415388 6415486 6410689 6403485 6388520 6324223 6324231 6278835 6275575 6263240 6257411 6257455
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