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■ 2015年 特許取得件数ランキング 第2211位 7件 (2014年:第10386位 1件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5797556 | 可変整形ビームリソグラフィを用いたレチクルの設計および製造のための方法 | 2015年10月21日 | |
特許 5792189 | 複数の露光経路を利用して荷電粒子ビームリソグラフィを用いてパターンをフラクチャリングするための方法およびシステム | 2015年10月 7日 | |
特許 5787473 | 半導体装置を基板上に製造するための方法、荷電粒子ビームリソグラフィのための断片化またはマスクデータ準備のための方法、複数の円形パターンを表面上に形成するための方法およびシステム、ならびに荷電粒子ビームリソグラフィで用いるための断片化またはマスクデータ準備のためのシステム | 2015年 9月30日 | |
特許 5749905 | フラクチャリングまたはマスクデータ作成または近接効果補正のための方法、パターンセット形成方法、半導体素子製造方法、およびフラクチャリングまたはマスクデータ作成または近接効果補正のための装置 | 2015年 7月15日 | |
特許 5739808 | 可変整形ビームリソグラフィを用いたレチクルの光近接効果補正、設計、および製造のための方法 | 2015年 6月24日 | |
特許 5696046 | 2次元ドーズマップおよび荷電粒子ビームリソグラフィを用いたレチクルの設計および製造のための方法 | 2015年 4月 8日 | |
特許 5676449 | 光近接効果補正、設計およびキャラクタプロジェクションリソグラフィを用いたレチクルの製造のための方法 | 2015年 2月25日 |
7 件中 1-7 件を表示
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