特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ディー・ツー・エス・インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(ディー・ツー・エス・インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2015年出願公開件数ランキング　　　第4198位　4件（2014年：第4165位　4件）

　■　2015年特許取得件数ランキング　　　第2211位　7件（2014年：第10386位　1件）

（ランキング更新日：2025年4月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

ディー・ツー・エス・インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 5797556	可変整形ビームリソグラフィを用いたレチクルの設計および製造のための方法	2015年10月21日
特許 5792189	複数の露光経路を利用して荷電粒子ビームリソグラフィを用いてパターンをフラクチャリングするための方法およびシステム	2015年10月 7日
特許 5787473	半導体装置を基板上に製造するための方法、荷電粒子ビームリソグラフィのための断片化またはマスクデータ準備のための方法、複数の円形パターンを表面上に形成するための方法およびシステム、ならびに荷電粒子ビームリソグラフィで用いるための断片化またはマスクデータ準備のためのシステム	2015年 9月30日
特許 5749905	フラクチャリングまたはマスクデータ作成または近接効果補正のための方法、パターンセット形成方法、半導体素子製造方法、およびフラクチャリングまたはマスクデータ作成または近接効果補正のための装置	2015年 7月15日
特許 5739808	可変整形ビームリソグラフィを用いたレチクルの光近接効果補正、設計、および製造のための方法	2015年 6月24日
特許 5696046	２次元ドーズマップおよび荷電粒子ビームリソグラフィを用いたレチクルの設計および製造のための方法	2015年 4月 8日
特許 5676449	光近接効果補正、設計およびキャラクタプロジェクションリソグラフィを用いたレチクルの製造のための方法	2015年 2月25日

7 件中 1-7 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5797556 5792189 5787473 5749905 5739808 5696046 5676449

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ディー・ツー・エス・インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数