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エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ．
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1910位 11件
（
2014年： 0件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第23268位 0件
（2014年： 0件）
（ランキング更新日：2026年10月23日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2015-233137 | 半導体基板のための反応性硬化プロセス | 2015年12月24日 | |
| 特開 2015-211216 | 基板処理装置 | 2015年11月24日 | |
| 特開 2015-201638 | ファンデルワールス力を用いてワークピースを搬送するアンチスリップエンドエフェクタ | 2015年11月12日 | |
| 特開 2015-192148 | 過酸化水素を半導体処理チャンバへ送る方法及びシステム | 2015年11月 2日 | |
| 特開 2015-179843 | 複数の反応チャンバを共有するガスシステムで均一な処理を行う方法 | 2015年10月 8日 | |
| 特開 2015-161030 | ガス供給マニホールド及びガス供給マニホールドを使用してチャンバにガスを供給する方法 | 2015年 9月 7日 | |
| 特開 2015-88751 | 低減されたトリミングレートで炭素含有膜をトリミングする方法 | 2015年 5月 7日 | |
| 特開 2015-74831 | ＴＤＭＡＴ又はＴＤＥＡＴを用いてＰＥＡＬＤによりＴｉ含有膜を形成する方法 | 2015年 4月20日 | |
| 特開 2015-73095 | ワイヤ−ベース半導体装置を製造する方法 | 2015年 4月16日 | |
| 特開 2015-61075 | プラズマアシストプロセスにより酸化膜を生成する方法 | 2015年 3月30日 | |
| 特開 2015-2349 | プラズマアシストプロセスにより処理された基板の面内均一性を制御する方法 | 2015年 1月 5日 |
11 件中 1-11 件を表示
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2015-233137 2015-211216 2015-201638 2015-192148 2015-179843 2015-161030 2015-88751 2015-74831 2015-73095 2015-61075 2015-2349
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