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　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第2064位　10件（2017年：第1994位　12件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第1989位　8件（2017年：第5450位　2件）

（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2018-198318	半導体基板のための反応性硬化プロセス	2018年12月13日
特表 2018-536279	光活性デバイス及び材料	2018年12月 6日
特開 2018-190986	トレンチの側壁又は平坦面上に選択的に窒化ケイ素膜を形成する方法	2018年11月29日
特開 2018-138691	成膜抑制ガス排気のためのシャワープレート構造	2018年 9月 6日
特開 2018-137435	選択的パッシベーションおよび選択的堆積	2018年 8月30日
特開 2018-100446	酸化物薄膜の堆積	2018年 6月28日
特開 2018-95961	レニウム含有薄膜の原子層堆積	2018年 6月21日
特表 2018-515692	モリブデン又はタングステン含有薄膜のＡＬＤ用前駆体の合成及び使用方法	2018年 6月14日
特開 2018-90901	基板処理装置、基板の処理方法	2018年 6月14日
特開 2018-93179	基板処理装置	2018年 6月14日

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2018-198318 2018-536279 2018-190986 2018-138691 2018-137435 2018-100446 2018-95961 2018-515692 2018-90901 2018-93179

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