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エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ．
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第1197位 21件
（
2019年：第2345位 9件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第2418位 6件
（
2019年：第2333位 6件）
（ランキング更新日：2026年4月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2020-204093 | 基板処理装置、チャンバ内のクリーニング方法 | 2020年12月24日 | |
| 特開 2020-191444 | 装置稼働方法と基板処理装置 | 2020年11月26日 | |
| 特開 2020-191450 | エッジパージを用いる基材サセプタ | 2020年11月26日 | |
| 特開 2020-191473 | ＳｉＮの堆積 | 2020年11月26日 | |
| 特開 2020-188254 | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 | 2020年11月19日 | |
| 特開 2020-188255 | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 | 2020年11月19日 | |
| 特開 2020-172704 | 金属表面上の金属酸化物の選択的堆積 | 2020年10月22日 | |
| 特開 2020-167380 | 基板処理装置 | 2020年10月 8日 | |
| 特開 2020-155776 | 反応器マニホールド | 2020年 9月24日 | |
| 特開 2020-145461 | 低温でのＳｉＮの蒸着用Ｓｉ前駆体 | 2020年 9月10日 | |
| 特表 2020-520126 | 誘電体上の酸化物の選択的ＰＥＡＬＤ | 2020年 7月 2日 | |
| 特表 2020-519007 | 酸素含有薄膜の制御された形成のためのプラズマ増強堆積プロセス | 2020年 6月25日 | |
| 特開 2020-65087 | ＳｉＯＣＮ薄膜の形成 | 2020年 4月23日 | |
| 特開 2020-61549 | 基板処理装置 | 2020年 4月16日 | |
| 特開 2020-56104 | 選択的パッシベーションおよび選択的堆積 | 2020年 4月 9日 |
21 件中 1-15 件を表示
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2020-204093 2020-191444 2020-191450 2020-191473 2020-188254 2020-188255 2020-172704 2020-167380 2020-155776 2020-145461 2020-520126 2020-519007 2020-65087 2020-61549 2020-56104
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