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エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ．
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第1259位 20件
（
2020年：第1197位 21件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第1703位 10件
（
2020年：第2418位 6件）
（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-191754 | モリブデン又はタングステン含有薄膜のＡＬＤ用前駆体の合成及び使用方法 | 2021年12月16日 | |
| 特開 2021-184478 | ＳｉＯＣ薄膜の形成 | 2021年12月 2日 | |
| 特開 2021-180323 | ＳｉＮの堆積 | 2021年11月18日 | |
| 特開 2021-168410 | ＳｉＮ薄膜の形成 | 2021年10月21日 | |
| 特開 2021-118359 | 側面支持体付きプロセスチャンバー | 2021年 8月10日 | |
| 特開 2021-110041 | シャワーヘッドアセンブリおよび構成要素 | 2021年 8月 2日 | |
| 特開 2021-100114 | コバルトメタライゼーションのためのシステムおよび方法 | 2021年 7月 1日 | |
| 特開 2021-90042 | 基板処理装置、基板処理方法 | 2021年 6月10日 | |
| 特開 2021-68902 | 半導体基材処理用サセプタ | 2021年 4月30日 | |
| 特開 2021-61414 | 低温でのＳｉＮの蒸着用Ｓｉ前駆体 | 2021年 4月15日 | |
| 特開 2021-52182 | 半導体加工装置 | 2021年 4月 1日 | |
| 特開 2021-42474 | 化学物質昇華器のための充填容器およびコネクタ | 2021年 3月18日 | |
| 特開 2021-44547 | 反応物質気化システムのための加熱ゾーン分離 | 2021年 3月18日 | |
| 特開 2021-31769 | 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置 | 2021年 3月 1日 | |
| 特表 2021-504658 | クリーン・ミニエンバイロメントを備える装置 | 2021年 2月15日 |
20 件中 1-15 件を表示
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2021-191754 2021-184478 2021-180323 2021-168410 2021-118359 2021-110041 2021-100114 2021-90042 2021-68902 2021-61414 2021-52182 2021-42474 2021-44547 2021-31769 2021-504658
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