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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第2345位 9件
(2018年:第2064位 10件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第2333位 6件
(2018年:第1989位 8件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2019-218626 | 基板処理装置、記憶媒体、基板処理方法 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-201406 | 絶縁システム、基板処理装置 | 2019年11月21日 | |
特開 2019-194353 | シリコンヒドロハライド前駆体を用いたSiNのプラズマエンハンスト原子層堆積(PEALD) | 2019年11月 7日 | |
特開 2019-195059 | 堆積および除去を使用した選択的層形成 | 2019年11月 7日 | |
特開 2019-186541 | 基板処理方法 | 2019年10月24日 | |
特開 2019-145761 | 基板処理方法及び装置 | 2019年 8月29日 | |
特表 2019-518134 | アニールおよび選択的堆積を組合せたシステム | 2019年 6月27日 | |
特開 2019-62225 | 低温でのSiNの蒸着用Si前駆体 | 2019年 4月18日 | |
特開 2019-29652 | 負バイアスを用いてPEALDによって膜を堆積する方法 | 2019年 2月21日 |
9 件中 1-9 件を表示
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2019-218626 2019-201406 2019-194353 2019-195059 2019-186541 2019-145761 2019-518134 2019-62225 2019-29652
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