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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第2064位 10件 (2017年:第1994位 12件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第1989位 8件 (2017年:第5450位 2件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6408584 | 硫黄含有薄膜 | 2018年10月17日 | |
特許 6381486 | 半導体基板のための反応性硬化プロセス | 2018年 8月29日 | |
特許 6370103 | バッチ反応器中での環状窒化アルミニウム蒸着 | 2018年 8月 8日 | |
特許 6367615 | プラズマアシストプロセスにより処理された基板の面内均一性を制御する方法 | 2018年 8月 1日 | |
特許 6367658 | プラズマアシストプロセスにより酸化膜を生成する方法 | 2018年 8月 1日 | |
特許 6351242 | 処理システムのためのスケジューラ | 2018年 7月 4日 | |
特許 6352771 | 低減されたトリミングレートで炭素含有膜をトリミングする方法 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6339512 | 過酸化水素を半導体処理チャンバへ送る方法及びシステム | 2018年 6月 6日 |
8 件中 1-8 件を表示
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6408584 6381486 6370103 6367615 6367658 6351242 6352771 6339512
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12月1日(日) -
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